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这一研究成果以《Selenium alloyed tellurium oxide for amorphous p-channel transistors》为题,于北京时间10日23时在权威期刊《Nature》以加速预览形式(Accelerated Article Preview)在线发表。该成果由中国电子科技大学和韩国浦项科技大学共同合作完成。论文第一单位为电子科技大学基础与前沿研究院,电子科技大学基础与前沿研究院教授刘奥为论文第一作者和通讯作者。

(撰稿:戴融胜)

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    • 万睿贝LV2
      1楼
      “向天借地”辟新道 昆明盘龙楼宇经济再发展
      2024/04/26   来自象山
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